（ｃ）ARCURY（アーキュリー）

（イ）概　要
半導体製造工程のおよそ1／5～1／3を占めるウェットプロセスにおいては、従来からRCA洗浄が採用されており、濃厚かつ高温の酸・アルカリと超純水が洗浄薬液として多用されてきた。半導体の微細加工技術の急速な進展により、それらの洗浄薬液はますます高い純度が要求されると同時に、洗浄接液部材から発生する微粒子やメタルコンタミネーション、有機物の管理も厳しいものになってきている。
このような要求にこたえ、半導体・液晶ウェットプロセス向けに耐薬品性にすぐれ、なおかつ純粋性にすぐれたシール材「ARCURY」を開発した。

表1．2．26‐3　アーキュリー各種の紹介

製品名称	ARCURY-AD	ARCURY-AL	ARCURY-OZT	ARCURY-OZW
特長	酸性溶液に対する耐性がすぐれ、金属・有機物溶出量が低減されているため純粋性にもすぐれている。	従来のふっ素ゴムでは使用困難であったアンモニアをはじめとするアルカリ溶液に対する耐性がすぐれている。	オゾンガス・オゾン水に対する耐 性が優れ 、金 属・有機物溶出量が低減されているため純粋性にすぐれている。	オゾンガス・オゾン水に対する耐性がすぐれている。OZTに比べると耐熱性が向上している。
外観色	琥珀透明	黒	透明	白
硬 さ （ShoreA）	67	75	60	68
主用途	・ウェハー、ガラス基板洗浄装置 ・スピンコータ、スピンデベロッパ ・薬液搬送容器シール ・フィルターシール、バルブシール、継手シール等		・オゾン洗浄装置 ・オゾン発生装置 ・オゾン分解装置 等

備 考 表中の数値は、すべて実測値であり規格値ではない。