(c)ARCURY

(甲)概 要
在约占半导体制造工程 1/5~1/3 的湿法工艺中,一直以来都采用 RCA 清洗,并较多地采用浓厚且高温的酸、碱和超纯水作为清洗药液。随之半导体精密加工技术的急速发展,对清洗药液的纯度要求越来越高,同时,对与清洗药液接触部材料产生的微粒以及金属污染、有机物的管理也更加严格。
应上述需求,我们开发了面向半导体、液晶湿法工艺的密封材料“ARCURY”,它具有优异的耐化学品性和出色的纯净性。

表 1. 2. 26-3 各种 ARCURY 的介绍

产 品 名 称 ARCURY-AD ARCURY-AL ARCURY-OZT ARCURY-OZW
特 征 对酸性溶液具有良好的耐性,由于金属、有机物析出量的降低而具有优秀的纯净性。 对于以氨为首的难以使用传统氟橡胶的碱溶液有良好的耐性。 对臭氧气体、臭氧水具有良好的耐性,由于金属、有机物析出量的降低而具有优秀的纯净性。 对臭氧气体、臭氧水具有良好的耐性, 耐热性相比OZT 有所提高。
外观颜色 琥珀透明 透明
硬 度
(ShoreA)
67 75 60 68
主要用途 ・晶片、玻璃基板清洗装置
・自旋式涂敷机、自旋显影机
・药液输送容器密封
・过滤器密封、阀门密封、接头密封等
・臭氧清洗装置
・臭氧发生装置
・臭氧分解装置 等 

备 注 表中数值均为实测值,并非规格值。

   

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