（ｃ）ARCURY

（甲）概　要
在约占半导体制造工程 1/5～1/3 的湿法工艺中，一直以来都采用 RCA 清洗，并较多地采用浓厚且高温的酸、碱和超纯水作为清洗药液。随之半导体精密加工技术的急速发展，对清洗药液的纯度要求越来越高，同时，对与清洗药液接触部材料产生的微粒以及金属污染、有机物的管理也更加严格。
应上述需求，我们开发了面向半导体、液晶湿法工艺的密封材料“ARCURY”，它具有优异的耐化学品性和出色的纯净性。

表 1. 2. 26-3　各种 ARCURY 的介绍

产　品　名　称	ARCURY-AD	ARCURY-AL	ARCURY-OZT	ARCURY-OZW
特　征	对酸性溶液具有良好的耐性，由于金属、有机物析出量的降低而具有优秀的纯净性。	对于以氨为首的难以使用传统氟橡胶的碱溶液有良好的耐性。	对臭氧气体、臭氧水具有良好的耐性，由于金属、有机物析出量的降低而具有优秀的纯净性。	对臭氧气体、臭氧水具有良好的耐性， 耐热性相比OZT 有所提高。
外观颜色	琥珀透明	黑	透明	白
硬　度 （ShoreA）	67	75	60	68
主要用途	・晶片、玻璃基板清洗装置 ・自旋式涂敷机、自旋显影机 ・药液输送容器密封 ・过滤器密封、阀门密封、接头密封等		・臭氧清洗装置 ・臭氧发生装置 ・臭氧分解装置 等

备 注　表中数值均为实测值，并非规格值。